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KAIST, 차세대 반도체 전류 흐름 개선 원천기술 개발

이교선 기자 입력 2026-07-14 08:10:00 조회수 59

KAIST 신소재공학과 홍승범·강기범 
교수 공동연구팀이, 차세대 반도체 
소자로 주목받는 2차원 소재 안에서,
전류가 막힘없이 흐르는 
새로운 구조를 구현했습니다.

연구팀은 기존처럼 금속 전극을 반도체 위에 
붙이는 대신, 하나의 2차원 소재 안에서 
준금속과 반도체 영역을 연속적으로 구현해 
전류가 경계에서 막히지 않고 흐를 수 있음을 입증했다고 밝혔습니다.

연구팀은 또, 이를 나노미터 수준에서
관찰할 수 있는 분석 플랫폼도 개발했으며,
이번에 개발된 기술이 차세대 반도체 개발에 
폭넓게 활용될 것으로 기대했습니다.

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이교선 ksun@tjmbc.co.kr
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